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2010-2011 A/W 『4 = force』
- 2010-05-28 (金)
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『Studio wear』
仕事、家着、ちょっとしたお出かけ着、多種多彩な活用性。
アトリエ、ギャラリー、オフィス、様々な状況での着用。
共通点にあるのはさりげない美学。
『Own space』
自分がより近い本来の自分でいれる
そこには人からの意識を遮断する最高の癒し。
No stress, relax, chill out, comfortable
寝巻というだらし無く、ユルくいれる
最高の魅力。
『Party』
人々が ”美” をこれ以上ないほど
意識する時、
そこには気高く自己表現をする。
衣により人を飾る
人はそれを魅力として他者へ伝える。
『Evocation』
言葉が出ない…..スゴ過ぎて
意識をうばい圧倒へと引きづり込む。
人の目を盗むこの上ない快感
喚起 Extreme
StudioWear + OwnSpace + Party + Evocation
= 『4 = force』
外面的な区別ではなく感覚でのカテゴリー
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